تشتعل الحرب الإلكترونية بين واشنطن وبكين، لاسيما بعد أن كشفت تقارير بأن الصين ستكون مكتفية ذاتيًا في إنتاج أشباه الموصلات المتقدمة، وقد مشف التقرير أيضا أن العامل الوحيد الذي منع الصين من تصنيع معالجات تطبيقات منافسة للرقائق التي تنتجها الشركات المنافسة هو الحظر الحالي على شحن آلات الطباعة الحجرية بالأشعة فوق البنفسجية الشديدة إلى مصانع صينية مثل SMIC، وهو ثالث أكبر مصانع في العالم.

تُعد آلة الطباعة الحجرية EUV هي المسؤولة الرئيسية عن نقل إنتاج الرقائق من عقدة المعالجة 10 نانومتر إلى عقدة 2 نانومتر التي تستخدمها كبرى مصانع السبائك لتصنيع أحدث رقائقها هذا العام.

و كلما انخفض مستوى العقدة، قلّت مجموعة ميزات الشريحة، بما في ذلك الترانزستورات وهذا يعني أنه مع تقلص عقد المعالجة، يمكن استيعاب المزيد من الترانزستورات داخل الشريحة، مما يزيد من قوة المكون وكفاءته في استهلاك الطاقة.

وتُعد آلات الطباعة الحجرية EUV مهمة في هذا الصدد، إذ تتيح طباعة أنماط الدوائر الإلكترونية على رقائق السيليكون بخطوط أرق من شعرة الإنسان، ويجب أن تكون هذه الأنماط رقيقة للغاية حتى يُمكن بناء معالج التطبيقات (AP) بدقة لتصميم واستيعاب مليارات الترانزستورات.

ولا توجد سوى شركة واحدة في العالم تُصنّع آلات الطباعة الحجرية EUV، وهي شركة ASML الهولندية، التي مُنعت من شحن هذه الآلات إلى الصين من قِبل الولايات المتحدة وهولندا، حيث يقع مقرها الرئيسي.

تجدر الإشارة إلى أن الشركات الصينية، بما في ذلك SMIC، لا تزال قادرة على شراء آلات طباعة حجرية قديمة بتقنية DUV (الأشعة فوق البنفسجية العميقة) تدعم تصنيع رقائق 7 نانومتر.

ومع ذلك، هناك شائعات مستمرة حول تقنية متطورة ستسمح للصين ببناء آلة طباعة حجرية بتقنية EUV، وتتعلق أحدث الشائعات بفريق من معهد شنجهاي للبصريات والميكانيكا الدقيقة التابع للأكاديمية الصينية للعلوم.

ويقود هذا الفريق لين نان، الذي عمل في ASML كرئيس لتكنولوجيا مصادر الضوء، في سعيها لبناء آلة طباعة حجرية بتقنية EUV خاصة بها.